অর্ধপরিবাহী শিল্পের সরঞ্জামগুলিতে, 1000 °C থেকে 1300 °C পর্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রায় ফিউজড সিলিকা গ্লাস প্রায়শই ব্যবহৃত হয়।অপরিষ্কারের সংযুক্তির কারণে ডিভাইট্রিফিকেশন ঘটেডিভিট্রিফাইড অংশগুলি ফিউজড সিলিকাসের স্ফটিকযুক্ত অঞ্চল এবং স্ফটিকের রূপান্তর পয়েন্ট 275 °C।যখন গলিত সিলিকা গ্লাস এই রূপান্তর তাপমাত্রা উচ্চ তাপমাত্রা থেকে শীতল করা হয়, পৃষ্ঠের ক্রিস্টালাইজড ডিভিট্রিফাইড স্তরটির উচ্চ তাপমাত্রার α- ফেজ এবং ফসড সিলিকা গ্লাসের নিম্ন তাপমাত্রার β- ফেজ থেকে তাপীয় প্রসারণের একটি ভিন্ন সহগ রয়েছে।এর ফলস্বরূপ একটি অস্বচ্ছদ্রুত ঠান্ডা হওয়ার সময় পিলিং চেহারা; আরও গুরুতর ক্ষেত্রে, ফাটল দেখা দিতে পারে।
সিলিকা পণ্যগুলির সেবা জীবন বাড়ানোর জন্য, ডিভাইট্রিফিকেশনের কারণগুলি প্রতিরোধ করা অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। ডিভাইট্রিফিকেশনের প্রধান দূষণকারীগুলির মধ্যে ক্ষারীয় ধাতু,ক্ষারীয় পৃথিবীর ধাতুএমনকি ০.১ মিলিগ্রাম/সেমি2 দূষণের মাত্রাও ডিভাইট্রিফিকেশনের দশগুণ বা শতগুণ বৃদ্ধি ঘটাতে পারে।এই দূষণকারী পদার্থগুলোকে গলিত সিলিকাসের পৃষ্ঠের সাথে সংযুক্ত হতে বাধা দিতে, খালি হাতে সরাসরি হ্যান্ডলিং এড়ানো উচিত। উপরন্তু, উচ্চ তাপমাত্রা অপারেশন আগে পুঙ্খানুপুঙ্খ পরিষ্কার করা আবশ্যক তামাশা সিলিকা পৃষ্ঠের পরিষ্কারতা নিশ্চিত করতে।
গলিত সিলিকাসের সাধারণ পরিস্কারকরণ একটি নির্দিষ্ট পদ্ধতি অনুসরণ করেঃ প্রথমে, পরিষ্কার পানি দিয়ে পৃষ্ঠটি ধুয়ে ফেলুন, তারপর এটি একটি নির্দিষ্ট সময়ের জন্য একটি অ্যাসিড স্নানে ডুবিয়ে দিন, এটি সরিয়ে ফেলুন, আবার পরিষ্কার পানি দিয়ে ধুয়ে ফেলুন,এবং অবশেষে এটি বায়ু শুষ্কএসিড সলিউশনের ধরন নিম্নরূপঃ
| বিষয়শ্রেণী/বিষয় | ঘনত্ব | সময় |
|---|---|---|
| হাইড্রোফ্লোরিক এসিড (এইচএফ) | 47.০% ~ ৫২.০% | ১ ~ ২ মিনিট |
| হাইড্রোফ্লোরিক এসিড (এইচএফ) | 5.০% ~ ১০% | ১০-১৫ মিনিট |
| হাইড্রোফ্লোরিক এসিড + নাইট্রিক এসিড | ৫০% + ৬৫% | ১০-১৫ মিনিট |
| হাইড্রোফ্লুরিক এসিড + সালফুরিক এসিড | ৫০% + ৬৫% | ১০-১৫ মিনিট |